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序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 高效能氮氧堆叠化学沉积设备 | 4 | 详见文件 | |
2 | 高温 (略) 度氧化硅原子层化学气相沉积设备 | 2 | 详见文件 | |
3 | 超深沟道孔刻蚀设备 | 1 | 详见文件 | |
4 | 超深沟道孔刻蚀设备-2 | 1 | 详见文件 | |
5 | 接触孔硬掩膜开窗刻蚀 | 3 | 详见文件 | |
7 | 高温背面等离子体增强方式氮化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1 | 详见文件 |
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